特許紹介 1
紫外線酸化殺菌ろ過装置(紫外線ろ過層直射型殺菌ろ過装置)
【特許番号/公開番号】
特許第3,652,980号
【出願番号】
特許2000-347,632号
【発明者】
高山武彦
【発明の名称】
紫外線酸化殺菌浄化装置
【目的】
ろ過槽内の汚染抑制、ろ過槽の洗浄水による水循環系の汚染防止、紫外線ランプの洗浄頻度を少なくすることのできる紫外線酸化殺菌浄化装置を提案する。
【効果】
ろ過前の原水に含まれている異物を酸化凝集させることにより、凝集剤が不要あるいは少なくて済む。また、オゾンランプによりろ過層上部の汚染物質、ろ過材の殺菌ができるので、ろ過材の洗浄頻度減少と、水循環系全体の汚染を防止できる。洗浄水により浮上対流するろ過材で、オゾンランプ管の表面の汚れが除去されるので、ランプ管を取り外して磨くというメンテナンスの頻度を低減できる。
【技術概要】
紫外線酸化殺菌浄化装置1 のタンク2 内にはろ過層3 が配置され、その上部空間5 にはオゾンランプ6 が配置され、原水はオゾンランプ6 により酸化殺菌作用を受けてろ過層3 でろ過され、処理水として排出される。逆洗時、ろ過層3 に堆積していた汚染物質はオゾンランプ6 による酸化殺菌作用を受けた後に外部に排出される。排出される水による外部配管系の汚染が防止される。ろ過層3 は常にオゾンランプ6 により酸化殺菌処理されているのでクリーンであり、その保守頻度が少なくてよい。逆洗時、浮上したろ過材によりオゾンランプのランプ管に付着している汚れが磨き落とされるので、ランプ管の保守頻度も少なくてよい。